特許
J-GLOBAL ID：200903024735008694
磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-162720
公開番号（公開出願番号）：特開平10-011733
出願日： 1996年06月24日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】【課題】従来の技術では、磁気記録媒体の製造方法において、保磁力を高くするために、下地膜形成の際に基板温度を高めてやる必要があった。それにより、磁気記録媒体の保磁力は向上するが、同時に保磁力角形比が小さくなり、S/Nm比で見る限りにおいては、保磁力の向上から期待されるほどの改善は見られないという課題がある。【解決手段】基板11上に下地膜14と磁性膜15と保護膜16を順次積層した磁気記録媒体において、基板11と下地膜14との間に非磁性金属材料からなる中間膜12と中間膜12をプラズマ酸化させた中間酸化膜13とを基板11上に順次設けた。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に非磁性下地膜と磁性膜を順次積層させてなる磁気記録媒体において、該基板と該下地膜との間に非磁性金属材料からなる中間膜と該中間膜を酸化させた中間酸化膜とを該基板上に順次形成した磁気記録媒体において、該中間酸化膜をアモルファスにしたことを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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