特許

J-GLOBAL ID：200903024763612726

光ディスク原盤製造方法

発明者： 太田 岑正
出願人/特許権者： パイオニアビデオ株式会社 ,  パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 藤村 元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-093836
公開番号（公開出願番号）：特開平8-287525
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 歩留まりの高くかつ、鮮明でかつ大きな文字等のパターンが表示可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。【構成】 透光性基板22と、透光性基板上に形成されかつ回折格子領域を形成するための開口を有する不透明薄膜21とからなるマスク原盤を形成する工程と、表示パターン領域を形成するための透光部を有する表示パターン用マスクを形成する工程と、主面にフォトレジスト層23を有する現像用基板を形成する工程と、現像用基板のフォトレジスト層23上にマスク原盤を配置し、不透明薄膜の開口を介してフォトレジスト層を一括露光する第1露光工程と、現像用基板のフォトレジスト層上に表示パターン用マスクを配置し、透光部を介してフォトレジスト層を一括露光する第2露光工程と、第1及び第2露光工程にて露光されたフォトレジスト層を有する現像用基板を現像する工程と、を有する。

請求項（抜粋）：

記録面の一方は情報信号を担うピット列からなる同心円状又は螺旋状に形成された記録トラックを有し、かつ記録面の他方は入射光により回折光を生ぜしめる回折格子領域と前記回折格子領域内に形成された前記入射光により回折光を生ぜしめない表示パターン領域とを有する、両記録面にピット列が形成され得る反射型光ディスクのための光ディスク原盤を製造する方法であって、透光性基板と、該透光性基板上に形成されかつ前記回折格子領域を形成するための開口を有する不透明薄膜とからなるマスク原盤を形成する工程と、表示パターン領域を形成するための透光部を有する表示パターン用マスクを形成する工程と、主面にフォトレジスト層を有する現像用基板を形成する工程と、前記現像用基板の前記フォトレジスト層上に前記マスク原盤を配置し、前記不透明薄膜の前記開口を介して前記フォトレジスト層を一括露光する第1露光工程と、前記現像用基板の前記フォトレジスト層上に前記表示パターン用マスクを配置し、前記透光部を介して前記フォトレジスト層を一括露光する第2露光工程と、前記第1及び第2露光工程にて露光された前記フォトレジスト層を有する前記現像用基板を現像する工程と、を有することを特徴とする光ディスク原盤製造方法。