特許

J-GLOBAL ID：200903024764268379

真空処理装置

発明者： 坪根 恒彦 ,  田村 直行 ,  加藤 重和 ,  西畑 廣治 ,  伊藤 温司 ,  伊藤 陽一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-255964
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067672
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【目的】 試料台に載置した試料の温度を正確に維持することができる真空処理装置を提供すること。【構成】 試料台5に誘電体層7を介在させて試料6を載置し、試料台5と試料6の間に直流高圧電源14より直流高電圧を印加することにより該試料6を静電力で該試料台5上に固定すると共に温調機10より配管23を介して該試料台5の冷媒液通路5aに冷媒液を導入して調温する真空処理装置において、電流検出器13により前記誘電体層7に流れる電流を検出し、該検出結果に基づいて前記冷媒液の流量または温度を制御することにより前記試料6の温度を調整する。

請求項（抜粋）：

試料台に誘電体を介在させて試料を載置し、試料台と試料の間に直流高電圧を印加することにより該試料を静電力で該試料台上に固定すると共に該試料台に冷媒を導入して調温する真空処理装置において、前記誘電体に流れる電流を検出し、該検出結果に応じて前記冷媒の流量または温度を制御することにより前記試料の温度を調整するようにしたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/66