特許
J-GLOBAL ID：200903024767044188
位置決め方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-057893
公開番号（公開出願番号）：特開平9-252043
出願日： 1996年03月14日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：
【要約】【課題】 非接触で行うことができ、かつ従来のピンを用いたプリアライメント方法と互換性を有する新規なプリアライメント方法を提供する。【解決手段】 ウエハW1がウエハステージのセンターアップ上に載置されている状態で、観察視野50a,51a,52aによってウエハの外周部を撮像して画像計測し、その結果からセンターアップ上に載置されているウエハの位置及び姿勢を求める。その後、ウエハW1の位置及び姿勢が従来のピンP1,P2,P3を押し当てて行うプリアライメント方法によるプリアライメント結果と同じになるように、センターアップを駆動しウエハを回転させてプリアライメントを行う。その後にセンターアップを下降させて、ウエハを基板ホルダに載置し、真空吸着して固定する。
請求項（抜粋）：
2次元方向に移動可能な基板ステージ上に実質的に円形で外周の一部に直線状切り欠き部を有する感光基板を位置決めするための位置決め方法において、前記感光基板を前記基板ステージの上方の所定の受け渡し点に搬送し、前記受け渡し点において前記感光基板の外周部を撮像し、所定の相対位置関係にある3本の仮想ピンのうち2本の仮想ピンが前記直線状切り欠き部に接触し残りの1本の仮想ピンが前記円形部分に接触して前記感光基板の外周部に同時に接触するとしたときの前記3本の仮想ピンの第1の位置を求める工程と、前記第1の位置を前記基板ステージ上に設定された前記3本の仮想ピンの第2の位置に一致させるために必要な回転角及び並進位置ずれ量を求める工程と、前記求められた回転角だけ前記感光基板を回転させる工程とを含むことを特徴とする位置決め方法。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, G03F 9/00
, H01L 21/027
H01L 21/68 F
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 520 A
