特許

J-GLOBAL ID：200903024767339412

表面処理剤

発明者： 西浜 脩二 ,  金田 勇 ,  曽我部 敦 ,  大澤 友 ,  遊佐 真一
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-270007
公開番号（公開出願番号）：特開2006-131886
出願日： 2005年09月16日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】粉体に対して優れた疎水性を付与するとともに、その洗い流し性を改善することを可能とする表面処理剤を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーからなることを特徴とする表面処理剤。(式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は-NH-基又は酸素原子、M1は水素又は1価の無機又は有機カチオンを表す。)【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有するポリマーからなることを特徴とする表面処理剤。

IPC (8件)：

C08F 220/54 ,  C09K 3/00 ,  C08F 220/26 ,  C08F 220/38 ,  C08F 220/22 ,  C08F 220/34 ,  C08F 230/08 ,  C08F 230/02

FI (8件)：

C08F220/54 ,  C09K3/00 R ,  C08F220/26 ,  C08F220/38 ,  C08F220/22 ,  C08F220/34 ,  C08F230/08 ,  C08F230/02

Fターム (40件)：

4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC242 ,  4C083AC352 ,  4C083AC442 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083BB25 ,  4C083CC12 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083FF01 ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA08Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA31Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BA64Q ,  4J100BA81Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BB07Q ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA15

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭60-163973号公報
  
• 特開昭62-177070号公報
  
• 処理粉体およびそれを配合した化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-170355   出願人：株式会社資生堂

審査官引用 (1件)

• 熱現像感光材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-096634   出願人：富士写真フイルム株式会社