特許

J-GLOBAL ID：200903024780530342

光導波路モジュールの製造方法、及びポーリング処理装置

発明者： 中村 滋年 ,  ローシャン タプリヤ ,  菊地 崇
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-210974
公開番号（公開出願番号）：特開2008-039908
出願日： 2006年08月02日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：

【課題】ポーリング処理により、電気光学効果を発現させる光導波路素子を有する光導波路モジュールの製造方法において、モジュール化に際しての熱による非線形性の消失を抑えることができる光導波路モジュールの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に、下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層上に導波路層を形成する工程と、該導波路層の上部に上部クラッド層を形成する工程と、を少なくとも含む光導波路素子作製工程と、前記光導波路素子作製工程により作製した光導波路素子をモジュール筐体に固定する工程と、を含み、前記光導波路素子をモジュール筐体に固定した後に 該光導波路素子にポーリング処理により分子の配向を揃える工程を有することを特徴とする光導波路モジュールの製造方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上に、下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層上に導波路層を形成する工程と、該導波路層の上部に上部クラッド層を形成する工程と、を少なくとも含む光導波路素子作製工程と、 前記光導波路素子作製工程により作製した光導波路素子をモジュール筐体に固定した後、前記光導波路素子の分子の配向を揃えるポーリング処理を施す工程と、を含むことを特徴とする光導波路モジュールの製造方法。

IPC (3件)：

G02F 1/377 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12

FI (3件)：

G02F1/377 ,  G02B6/12 M ,  G02B6/12 J

Fターム (26件)：

2H147AB02 ,  2H147AB32 ,  2H147AC01 ,  2H147BE01 ,  2H147EA02C ,  2H147EA02D ,  2H147EA13C ,  2H147EA16A ,  2H147EA16B ,  2H147EA16C ,  2H147EA16D ,  2H147EA17A ,  2H147EA17B ,  2H147EA19A ,  2H147EA19B ,  2H147FA04 ,  2H147FA05 ,  2H147FA08 ,  2H147FA17 ,  2H147FC02 ,  2H147FC05 ,  2K002AB12 ,  2K002BA01 ,  2K002CA06 ,  2K002DA06 ,  2K002FA27