特許
J-GLOBAL ID：200903024783999473
PFC系ガス回収方法及び装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
社本 一夫 (外4名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999005937
公開番号（公開出願番号）：WO2000-026592
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2000年05月11日
要約：
【要約】本発明は、深冷分離法を採用し、多段の分留装置を用いることなく、冷却トラップの極低温化が容量の小さい冷凍装置で容易に達成でき、且つ高純度のPFC系ガスを回収できるPFC系ガス回収方法及び装置を提供することを目的とする。かかる目的を達成するために、本発明は、真空処理室(エッチングチャンバー)から排出されるPFC系ガスを含む混合ガスからPFC系ガスを回収するPFC系ガス回収装置であって、真空処理室の排気系に接続され該真空処理室から排出される混合ガスを凍結捕集する冷却トラップと、該冷却トラップの運転を停止した後に該凍結補集体が気化して発生する再生混合ガスからPFC系以外のガスを除去する非PFC系ガス除去装置を設け、該非PFC系ガス除去装置でPFC系以外のガスを除去して得られた高濃度PFC系ガスを回収する回収手段を設けたPFC系ガス回収方法及び装置に関する。
請求項（抜粋）：
冷却トラップで真空処理室から排出されるPFC系ガスを含む混合ガスを所定量凍結捕集した後、該冷却トラップの運転を停止し該凍結捕集体が気化して発生する再生混合ガスを非PFC系ガス除去装置に通して該再生混合ガスからPFC系以外のガスを除去し、高濃度PFC系ガスを得て、該高濃度PFC系ガスを回収することを特徴とするPFC系ガス回収方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
