露光方法及び露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高月亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-285043
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120101
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】露光条件を定めるための補正に要する時間を短縮でき、かつシステム的にも低コストにすることが可能な露光方法及び露光装置を提供する。【構成】 ?@露光すべきパターンの寸法をパラメータとし、複数の寸法について各寸法に応じた適正露光量を予め実験や計算により求めておき(II) 、露光時に、被露光体のパターンの寸法に応じた適正露光量を、前記予め求めた各寸法についての適正露光量から導いて、この露光量により露光照射を行う露光方法。?A近隣のパターンと孤立した位置にあるパターンについて、近隣のパターンの該パターンに対する散乱の影響を無視して露光量算定の方程式を立て、該方程式に、露光すべきパターンの寸法を入れて解き、これにより適正露光量を導き、この露光量により露光照射を行う露光方法。

請求項（抜粋）：

パターン状にエネルギ照射して露光を行う露光方法において、露光すべきパターンの寸法をパラメータとし、複数の寸法について各寸法に応じた適正露光量を予め求め、露光時に、被露光体のパターンの寸法に応じた適正露光量を、前記予め求めた各寸法についての適正露光量から導いて、この露光量により露光照射を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平2-209723
特開昭58-063135
特開平3-242921

全件表示

審査官引用 (4件)

特開平3-242921
特開平2-209723
特開昭58-063135

全件表示

前のページに戻る