特許

J-GLOBAL ID：200903024784353461

脱臭装置

発明者： 佐古 利治 ,  中川 尚治 ,  溝渕 学
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-004236
公開番号（公開出願番号）：特開平10-192644
出願日： 1997年01月14日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】【課題】 硫黄化合物を含有するガスの脱臭装置であって、取扱いが容易で、性能を長期に渡り維持する脱臭装置を提供する。【解決手段】 ハニカム形状、発泡形状、網状、粒状のいずれかの形状の担体に液相析出法で酸化チタン膜を形成した吸着層1、及び、上記吸着層1の性能を再生させる再生手段2を具備する。上記構成により、ガスの硫黄成分は常温で酸化チタンを担持した吸着層1で吸着することができるので取扱いが容易である。また、この酸化チタンを担持した吸着層1を再生するので長期に渡り使用が可能である。

請求項（抜粋）：

硫黄化合物を含有するガスの脱臭装置であって、ハニカム形状、発泡形状、網状、粒状のいずれかの形状の担体(4)に液相析出法で酸化チタン膜(5)を形成した吸着層(1)、及び、上記吸着層(1)の性能を再生させる再生手段(2)を具備することを特徴とする脱臭装置。

IPC (9件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/46 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30 ,  B01J 21/06

FI (9件)：

B01D 53/34 116 A ,  B01J 20/28 Z ,  B01J 20/30 ,  B01J 21/06 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 121 Z ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 ZAB H