顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-156375
公開番号（公開出願番号）：特開平6-348023
出願日： 1993年06月03日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】塑性流体、チキソトロピー性流体などの、降伏値を持つ非ニュートン性流体である顔料を含むカラーフィルター用レジストを回転塗布する際、膜厚が均一で、再現性の良い塗膜を得る方法の開発。【構成】回転塗布基上の基板に、塑性流体、チキソトロピー性流体などの、降伏値を持つ非ニュートン性流体である顔料を含むカラーフィルター用レジストを塗布する前に、スタティックミキサーを通してそのチキソ比を1.0〜1.1に調整してから回転塗布を行う。

請求項（抜粋）：

顔料を含むカラーフィルター用レジストを、スピンコーターにて塗布する際、スタティックミキサーにより、該レジストのチクソ比を1.0〜1.1としてから塗布することを特徴とする顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法【0001】

IPC (4件)：

G03F 7/16 502 , B05D 1/40 , G02B 5/20 101 , H01L 21/027

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