特許

J-GLOBAL ID：200903024813143480

液晶表示装置用電極基板及び液晶表示装置

発明者： 福地 俊生 ,  岩本 誠 ,  北畠 顕弘 ,  谷本 雅洋 ,  前川 正樹 ,  下山 直樹
出願人/特許権者： シャープ株式会社 ,  三容真空工業株式会社 ,  東レ株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342553
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168166
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 耐熱性、耐擦傷性、平坦性及びガスバリア性を向上させる。【構成】 液晶表示装置用電極基板は、樹脂基板4と硬化被膜3と硬化被膜2とITO膜6とがこの順に積層されて構成されている。樹脂基板4は、マレイミド系単量体を20重量%以上含む共重合体であり、架橋構造をもち、ガラス転移温度が160°C以上200°C以下である透明樹脂からなり、厚さが0.1〜0.8mmである。硬化被膜3は、R1 SiX3 で表されるエポキシシランで架橋されたポリビニルアルコールを含む硬化被膜である(R1 はグリシジル基を含む炭素数1〜10の有機基であり、Xは加水分解性基である)。硬化被膜2は、シリカ微粒子を含むシロキサン系硬化被膜である。ITO膜6は、基板温度100°C以下において、表面が直径500nm以下のグレイン状に形成された、厚さ15〜500nmのITO膜である。

請求項（抜粋）：

下記A,B,C,E層がこの順序で積層された液晶表示装置用電極基板。A層:マレイミド系単量体を20重量%以上含む共重合体であり、架橋構造をもち、ガラス転移温度が160°C以上200°C以下である透明樹脂からなり、厚さが0.1〜0.8mmである樹脂基板B層:一般式(1)で表されるエポキシシランおよび/またはその加水分解物で架橋されたポリビニルアルコールを含む硬化被膜R1 SiX3 (1)(ここで、R1 はグリシジル基を含む炭素数1〜10の有機基であり、Xは加水分解性基である)C層:シリカ微粒子を含むシロキサン系硬化被膜E層:基板温度100°C以下において、表面が直径500nm以下のグレイン状に形成された、厚さ15〜500nmのITO膜

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 液晶表示装置用電極基板およびそれを用いた液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-148800   出願人：シャープ株式会社, 三容真空工業株式会社, 東レ株式会社
• 特開昭64-088425