特許
J-GLOBAL ID:200903024835418636

コバルト合金スパッタリングターゲット材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸木 良久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-130023
公開番号(公開出願番号):特開平5-295537
出願日: 1992年04月23日
公開日(公表日): 1993年11月09日
要約:
【要約】【構成】Cr 5〜20at%、Ta 1〜10at%を含有し、残部Coおよび不可避不純物よりなるコバルト合金であり、硬度がロックウェルC硬度を30以上とするマグネトロンスパッタ用コバルト合金スパッタリングターゲット材料である。【効果】マグネトロンスパッタリング用材料として低い透磁率を有するという優れた効果がある。
請求項(抜粋):
Cr 5〜20at%、Ta 1〜10at%を含有し、残部Coおよび不可避不純物よりなるコバルト合金であり、硬度がロックウェルC硬度が30以上であることを特徴とするマグネトロンスパッタ用コバルト合金スパッタリングターゲット材料。
IPC (2件):
C23C 14/35 ,  C22C 19/07

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