特許
J-GLOBAL ID:200903024848016952

真空炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 乾 昌雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-093696
公開番号(公開出願番号):特開平5-106973
出願日: 1992年03月19日
公開日(公表日): 1993年04月27日
要約:
【要約】【目的】 多数個の被処理物を短時間で温度むら少なく加熱できる真空炉を提供する。【構成】 炉殻21内の断熱壁22で包囲した断熱室23内に、トレイ40を収容するチヤンバ24を設け、このチヤンバ24の一方の側壁27には多数個の通気孔28を穿設し、他方の側壁29には吸気口30を設けてある。フアン35によリ炉内の雰囲気ガスを、循環路31a,31bを経て通気孔28からチヤンバ24内へ流入させる。ヒータ34により加熱された雰囲気ガスは、整流状態でチヤンバ24内を横向きに流れて吸気口30へと循環し、トレイ40上に多段積み状に保持された被処理物41を加熱する。
請求項(抜粋):
真空ポンプおよび雰囲気ガス供給源に接続された炉殻内に、断熱壁で包囲した断熱室を設け、一方の側壁を多孔板で構成しこれと対向する他方の側壁に吸気口をそなえたチヤンバを、前記断熱室内に配設し、前記吸気口から前記チヤンバの外部を経て前記一方の側壁の外側に至る循環路に、雰囲気ガス循環用のフアンと雰囲気ガス加熱用のヒータを設けるとともに、被処理物を段積み状に保持し前記チヤンバ内に装入されるトレイを具備したことを特徴とする真空炉。
IPC (5件):
F27D 7/04 ,  F27B 9/04 ,  F27B 9/10 ,  F27B 9/24 ,  F27D 7/06
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭60-262914
  • 特開昭62-093310
  • 特開平4-039593

前のページに戻る