特許
J-GLOBAL ID:200903024848564941
ウェハの位置決め装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野口 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-364075
公開番号(公開出願番号):特開2001-185603
出願日: 1999年12月22日
公開日(公表日): 2001年07月06日
要約:
【要約】【課題】微小で且つ平坦な傾斜面に対する各種加工機の位置決めを、高精度に且つ簡単な機構をもって実現できるウェハの位置決め装置と、同位置決め装置を組み込んだ半導体素子製造に適用される各種の製造装置を提供する。【解決手段】ウェハ周縁の一点に対する加工位置検出手段(105) のセット位置が決まると、傾斜手段(103) を介して割出し回転テーブル(102) をウェハ(W) の周縁の前記一点を中心(O) として垂直軸回りに回転させると共に、前記一点を通り、ウェハ中心と前記一点とを結ぶ直線に直交する水平線回りに所望の角度を回動させながら平坦面領域を検出し、その平坦面領域に直交する直線上にレーザマーカの照射光軸を位置合わせする。
請求項(抜粋):
回転テーブルと、同回転テーブルの回転中心線上に半導体ウェハの外周部の一点を位置決めして保持すると共に、前記回転テーブルに固設されたウェハ保持手段と、前記一点の周辺位置を検出する位置検出手段とを備えてなり、前記半導体ウェハ保持手段は、ウェハ外周部の前記一点を中心に回転することを特徴とするウェハの位置決め装置。
IPC (3件):
H01L 21/68
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
FI (3件):
H01L 21/68 F
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 503 A
Fターム (13件):
5F031CA02
, 5F031JA06
, 5F031JA35
, 5F031KA14
, 5F031MA33
, 5F046CC01
, 5F046CC06
, 5F046CC08
, 5F046DB05
, 5F046DC12
, 5F046FA05
, 5F046FA10
, 5F046FC08
前のページに戻る