特許
J-GLOBAL ID：200903024855805326
超純水製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-223688
公開番号（公開出願番号）：特開平11-057418
出願日： 1997年08月20日
公開日（公表日）： 1999年03月02日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、ユースポイントの超純水中にオゾンを注入することによりユースポイントに設置されたオゾン耐性膜で阻止された微生物を確実に殺菌すると共に、前記オゾン耐性膜で阻止または該オゾン耐性膜に付着した有機物を分解してユースポイントでの超純水の水質を高度に維持することが出来る超純水製造装置を提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】 ユースポイント3にオゾン耐性膜を備えた精密濾過膜モジュールまたは限外濾過膜モジュールを設置し、該モジュールの被処理液側にオゾン供給手段によりオゾン注入を行ってユースポイント3での超純水の水質を維持するように構成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
超純水を取り出すユースポイントにオゾン耐性を有する精密濾過膜または限外濾過膜を内蔵したモジュールと、該モジュールの被処理液側にオゾンを供給するオゾン供給手段とを有することを特徴とする超純水製造装置。
IPC (9件)：
B01D 61/18
, C02F 1/44
, C02F 1/50 510
, C02F 1/50 520
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50 540
, C02F 1/50 550
, C02F 1/50 560
, C02F 1/78
B01D 61/18
, C02F 1/44 J
, C02F 1/50 510 E
, C02F 1/50 520 B
, C02F 1/50 531 R
, C02F 1/50 540 B
, C02F 1/50 550 C
, C02F 1/50 560 E
, C02F 1/78
