特許
J-GLOBAL ID：200903024864383361

電磁波シールド性透明フィルムの製造方法

発明者：
上原 寿茂

上原 寿茂 について

, 
登坂 実

登坂 実 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-410235
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175061
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】 電磁波シールド性と透明性・非視認性を有する電磁波シールド性透明フィルムおよび該フィルムを用いた電磁波遮蔽体、ディスプレイを安定的に大量生産するための製造方法を提供する。【解決手段】 透明プラスチック支持体上に凸版反転オフセット印刷法により開口率が50%以上になるように導電性ペーストを幾何学図形状に印刷する工程を含むことを特徴とする電磁波シールドフィルムの製造方法。さらに、導電性ペースト上に金属めっきを施す工程、描かれた幾何学図形の上から樹脂層を形成する工程、透明プラスチック支持体上に、導電性ペーストからなる幾何学図形を形成する前に樹脂層を形成する工程をを含んでいてもい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明プラスチック支持体上に凸版反転オフセット印刷法により開口率が50%以上になるように導電性ペーストを幾何学図形状に印刷する工程を含むことを特徴とする電磁波シールドフィルムの製造方法。
IPC (4件)：
H05K9/00 ,  B41M1/02 ,  B41M3/00 ,  G09F9/00
FI (4件)：
H05K9/00 V ,  B41M1/02 ,  B41M3/00 Z ,  G09F9/00 309A
Fターム (26件)：
2H113AA01 ,  2H113AA04 ,  2H113AA06 ,  2H113BA01 ,  2H113BB08 ,  2H113BB22 ,  2H113BB32 ,  2H113BC10 ,  2H113BC12 ,  2H113CA17 ,  2H113DA04 ,  2H113DA57 ,  2H113DA58 ,  2H113EA21 ,  2H113FA08 ,  2H113FA43 ,  5E321AA04 ,  5E321BB23 ,  5E321BB32 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01 ,  5G435AA16 ,  5G435BB06 ,  5G435EE03 ,  5G435FF08 ,  5G435GG33
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (4件)
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