特許
J-GLOBAL ID:200903024869335950
支持体の表面処理方法、表面処理装置、塗布方法、及び、塗布装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-091528
公開番号(公開出願番号):特開平11-286561
出願日: 1998年04月03日
公開日(公表日): 1999年10月19日
要約:
【要約】【課題】 物理的表面処理を施した支持体上への膜付き性が充分(第1課題)であり、高速で塗布液を塗布することができること(第2課題)。連続搬送している支持体に対してプラズマ処理を安定して施すことができ(第3課題)、プラズマ処理が施された支持体上に傷が発生しないこと(第4課題)。フレームプラズマ処理を施した支持体上への膜付き性が充分となること(第5課題)。【解決手段】 物理的表面処理が施された支持体における表面エネルギーの水素結合成分γhを、8mN/m以上とする。表面エネルギーの非極性成分γdの低下量を7mN/m以下とする。プラズマ処理に先立ち支持体に除電処理を施す。プラズマ処理を施してから塗布するまで、プラズマ処理が施された面に非接触で、又は、ローラの周面に設けた弾性層を接触させて、支持体を搬送する。フレームプラズマ処理の燃焼ガスに、ヘリウムより質量の大きいネオン以降の不活性ガスを導入する。
請求項(抜粋):
連続搬送されている支持体に対して、物理的表面処理を施す支持体の表面処理方法において、前記物理的表面処理が施された支持体における表面エネルギーの水素結合成分γhが、8mN/m以上となるように、物理的表面処理を施すことを特徴とする支持体の表面処理方法。
IPC (4件):
C08J 7/00 306
, B01J 19/08
, B05C 9/10
, B05D 3/00
FI (4件):
C08J 7/00 306
, B01J 19/08 E
, B05C 9/10
, B05D 3/00
引用特許:
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