低温時にエチレングリコールジメチルエーテルを用いて、工業用ガスからガス成分を除去する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：江崎光史 , 三原恒男 , 奥村義道 , 鍛冶澤實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-516659
公開番号（公開出願番号）：特表2004-536207
出願日： 2002年07月17日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

本発明は工業用ガスからガス成分を除去するための方法である。この場合、ガス成分をガス洗浄装置(2)を用いて、工業用ガス(1)から洗浄除去するとともに、ガス洗浄後ガス成分で汚染された洗浄剤を独立した再生工程(8)内でこれらの成分から再度除去し、ガス洗浄装置内のガス成分を、+15°Cから-60°Cの温度で洗浄除去する。その際洗浄剤としてエチレングリコールジメチルエーテルあるいは種々のエチレングリコールジメチルエーテル類の混合物を使用し、この洗浄剤は-30°C未満の凝固点と常圧で275°C未満の沸騰温度とを有し、かつ230g/mol未満のモル質量を有する。

請求項（抜粋）：

ガス成分をガス洗浄装置を用いて工業用ガスから洗浄除去するとともに、ガス成分で汚染された洗浄剤を、洗浄後、独立した再生工程内でこれらの成分から再度除去し、その際洗浄剤として、-30°C未満の凝固点と常圧時に275°C未満の沸騰温度を有し、かつ230g/mol未満のモル質量を有するエチレングリコールジメチルエーテルあるいは種々のエチレングリコールジメチルエーテル類の混合物を使用する工業用ガスからガス成分を除去するための方法において、洗浄装置内におけるガス成分を-18°Cから-60°Cの温度で洗浄除去することを特徴とする方法。

IPC (3件)：

C10K1/16 , B01D53/14 , C10L3/10

FI (4件)：

C10K1/16 , B01D53/14 C , B01D53/14 102 , C10L3/00 B

Fターム (19件)：

4D020AA04 , 4D020AA06 , 4D020AA08 , 4D020AA09 , 4D020AA10 , 4D020BA19 , 4D020BB04 , 4D020BC01 , 4D020CC10 , 4D020DA03 , 4D020DB02 , 4H060BB23 , 4H060DD02 , 4H060DD05 , 4H060DD12 , 4H060DD14 , 4H060DD21 , 4H060DD28 , 4H060FF04

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-018911
特開昭50-015785
特開昭50-045002

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