特許
J-GLOBAL ID：200903024875396392

化合物、膜形成用組成物および積層体の製造方法

発明者：
高橋 元樹

高橋 元樹 について

, 
緒方 寿幸

緒方 寿幸 について

, 
羽田 英夫

羽田 英夫 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-106136
公開番号（公開出願番号）：特開2007-277171
出願日： 2006年04月07日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】自己組織化単分子膜を形成でき、かつ長波長の光で感光する新規な化合物、該化合物を含有する膜形成用組成物および当該膜形成用組成物を用いた積層体の製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(I)[式中、R1〜R3はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基であり、aは2〜11の整数であり、Xは、隣接する酸素原子と当該酸素原子に結合した窒素原子との間の結合が開裂した際に親水性基を形成する基であり、Rは水素原子、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数1〜20のアルコキシ基であり、2つのRはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。]で表される化合物。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される化合物。
IPC (3件)：
C07F 7/18 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/075
FI (3件)：
C07F7/18 P ,  G03F7/029 ,  G03F7/075 501
Fターム (16件)：
2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BF30 ,  2H025BG00 ,  2H025CA07 ,  2H025CA46 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025FA15 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ43 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VU24
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

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