特許
J-GLOBAL ID：200903024876246556
軟磁性めっき薄膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-262354
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122426
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 高周波特性に優れたMoを含有する軟磁性めっき薄膜とその製造方法を提供するものである。【構成】 Moが2 wt%以上9 wt%未満の組成のMo含有軟磁性層とMoが10 wt%以上のMoリッチ層の少なくとも2組成以上のMo含有層が積層され、前者の層厚が後者の層厚の5倍以上であること電気めっき薄膜とその製造方法で、酒石酸イオンを含む浴から製造する点に特長がある。
請求項（抜粋）：
Ni、Fe、Coより選ばれる少なくとも2種以上と2wt%以上9wt%以下のMoを含有する軟磁性層と、Ni、Fe、Co,より選ばれる少なくとも2種以上と10wt%以上のMoを含有するMoリッチ層が積層されており、前記軟磁性層の層厚が前記Moリッチ層の層厚の2倍以上100倍以下である軟磁性めっき薄膜。
IPC (3件)：
H01F 10/14
, C25D 5/14
, G11B 5/31
