特許

J-GLOBAL ID：200903024885166948

透明安定被膜形成方法

発明者： 石丸 肇 ,  大野 純 ,  高橋 善則
出願人/特許権者： 石丸 肇 ,  月島機械株式会社
代理人 (1件)： 飯沼 義彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-120032
公開番号（公開出願番号）：特開平6-073536
出願日： 1992年04月14日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 成膜時の雰囲気から水分をほぼ除去することにより、基板表面に緻密で透明な安定酸化物被膜を形成するイオンプレーティング法の提供。【構成】 到達圧力を10-8Torr台に保たれる真空容器1の内部に、LaB6の陰極を有する圧力勾配型プラズマ発生装置2により水分に関して100ppb台の純度を有する不活性ガスを用い発生させたプラズマを導入して、同プラズマを上記真空容器内のアルミニウムブロックあるいはシリコンブロック5へ導くことによりアルミニウムあるいはシリコンを蒸発させ上記プラズマ内でイオン化するとともに、同アルミニウムあるいはシリコンのイオンと反応してアルミニウムあるいはシリコンの酸化物を生じさせるべく、水分に関して上記不活性ガスとほぼ同等の純度を有する酸素ガスを上記真空容器内に導入する。

請求項（抜粋）：

到達圧力を10-8Torr台に保たれる真空容器の内部に、LaB6の陰極を有する圧力勾配型プラズマ発生装置により水分に関して100ppb台の純度を有する不活性ガスを用い発生させたプラズマを導入して、同プラズマを上記真空容器内のアルミニウムブロックへ導くことによりアルミニウムを蒸発させ上記プラズマ内でイオン化するとともに、同アルミニウムのイオンと反応してアルミニウム酸化物を生じさせるべく、水分に関して上記不活性ガスとほぼ同等の純度を有する酸素ガスを上記真空容器内に導入することにより、あらかじめ上記真空容器内に配置した母材の表面に緻密で透明なサファイア状被膜を形成することを特徴とする、透明安定被膜形成方法。

IPC (2件)：

C23C 14/32 ,  C23C 14/08