特許
J-GLOBAL ID：200903024889654572
分子ふるい炭素膜およびその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-227397
公開番号（公開出願番号）：特開平10-052629
出願日： 1996年08月09日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】本発明は微細な細孔の分子ふるい効果による透過速度の差を利用したガスの分離精製に用いられる分子ふるい炭素膜、およびその製造法を提供することを目的とする。【解決手段】セラミック多孔質体表面に液状熱硬化性樹脂を塗布して高分子膜を形成した後、非酸化性雰囲気下で550 〜1100°Cで熱処理することにより、炭素含有率80% 以上で、細孔直径1nm 以下の細孔が多数存在することを特徴とする分子ふるい炭素膜を得る。
請求項（抜粋）：
気孔率30〜80% のセラミック多孔質体表面に密着し、炭素含有率80% 以上で、細孔直径1nm以下の多数の細孔が存在することを特徴とする分子ふるい炭素膜。
引用特許：
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