特許

J-GLOBAL ID：200903024895356036

汚染の評価方法

発明者： 滝澤 律夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343277
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168998
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 汚染源が被処理体に与える実際の汚染量を知ることができる汚染の評価方法、及び被処理体が実際に汚染源により与えられる汚染量を知ることができる汚染の評価方法を提供する。【構成】 汚染源2が被処理体1に与える汚染の評価方法もしくは被処理体が汚染源により与えられる汚染の評価方法であって、被処理体と同等の材料で、かつ汚染源との接触部は鏡面11をなしており、かつ該接触部には汚染源の側から汚染を拡散し易い層12及び汚染のストッパ層13が形成されている材料1を用い、該材料を汚染源に接触させた後、前記鏡面において全反射蛍光X線分析を行う汚染の評価方法。

請求項（抜粋）：

汚染源が被処理体に与える汚染の評価方法であって、被処理体と同等の材料であって、かつ汚染源との接触部は鏡面をなしており、かつ該接触部には汚染源の側から汚染を拡散し易い層及び汚染のストッパ層が形成されている材料を用い、該材料を汚染源に接触させた後、前記鏡面において全反射蛍光X線分析を行うことを特徴とする汚染の評価方法。