特許

J-GLOBAL ID：200903024904414036

記録装置

発明者： 森川 穣 ,  片野 泰男 ,  田中 慎二 ,  川久保 俊夫 ,  駒井 博道
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-206945
公開番号（公開出願番号）：特開平10-044591
出願日： 1996年08月06日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】 装置の小型化、接触材料消費量の低減、接触材料のハンドリング性向上、製版エネルギーの低減が可能な加熱手段を具備した記録装置を提供する。【解決手段】 版5の画像領域全表面の後退接触角が上昇した状態で、版5を接触材料9と接触させ、発熱体6aを有する加熱手段6により所定の画像領域を選択的に加熱することにより、該加熱部の後退接触角を低下させて版5に潜像を形成する記録装置であって、加熱手段6が接触材料9を供給する接触材料供給手段7を有する。

請求項（抜粋）：

A版の画像領域全表面の後退接触角が上昇した状態で、前記版をB接触材料と接触させ、発熱体を有する加熱手段により所定の画像領域を選択的に加熱することにより、該加熱部の後退接触角を低下させて前記版に潜像を形成する記録装置であって、前記加熱手段が前記接触材料を供給する接触材料供給手段を有することを特徴とする記録装置。A版:加熱状態でB接触材料と接触させたときに後退接触角が低下し、かつ、B接触材料と非接触状態で加熱したときに後退接触角が上昇する表面特性を有する版。B接触材料:液体、蒸気またはA版における後退接触角の低下開始温度以下で液体となるか、液体若しくは蒸気を発生する固体から選ばれる接触材料。

IPC (2件)：

B41M 5/00 ,  B41C 1/055 501

FI (2件)：

B41M 5/00 F ,  B41C 1/055 501