特許
J-GLOBAL ID：200903024920278789
真空蒸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339969
公開番号（公開出願番号）：特開平5-156428
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 電子銃蒸発源を用いた真空蒸着装置において、蒸着試料から放出された二次電子や弾性散乱電子が被蒸着基板に悪影響を及ぼさないようにした真空蒸着装置を提供することを目的としている。【構成】 電子銃蒸発源2と被蒸着基板5の間の空間6に、1対の電磁石7a、7bを対向設置してある。被蒸着基板5の近傍に、電子電流測定のためのプローブ8を設けても良い。
請求項（抜粋）：
電子銃蒸発源を用いた真空蒸着装置において、電子銃蒸発源と被蒸着基板の間の空間に、磁場を形成するための磁場形成手段が設置してあることを特徴とした真空磁着装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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