特許
J-GLOBAL ID：200903024921607921
プロキシミティ露光方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉原 省三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-108745
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302493
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 基板のステップ移動時に伴うマスクの微小変動によるパターン位置ズレの影響のない、高精度なパターン転写を迅速に行うことができるプロキシミティ露光方法及びその装置を提供せんとするものである。【構成】 X線マスク40とそのマスクパターンを転写しようとするウェハ基板50との位置合わせを行う位置合わせ装置と、該マスクパターンの露光を行う光源とを有すると共に、前記X線マスク40に接触しないでその変位を測定する変位測定手段1と、X線マスク40とウェハ基板50間の気圧制御を行う気圧制御手段2と、測定されたX線マスク40の変位に対応させてこれを打ち消す気圧制御指令を前記気圧制御手段2に送るコントロール装置3とをその構成に有している。
請求項（抜粋）：
マスクと基板を近接させた状態でマスクパターンの転写を行うプロキシミティ露光方法において、該マスクの変位を検出すると共に、検出された変位に対応させてマスクと基板との間の或いはマスク背面の気圧制御を行い、マスクの変位を打ち消すようにしたことを特徴とするプロキシミティ露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
