特許
J-GLOBAL ID:200903024939288718

極紫外光源内のガス噴射制御のためのノズル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-012664
公開番号(公開出願番号):特開2001-319800
出願日: 2001年01月22日
公開日(公表日): 2001年11月16日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 レーザープラズマ極紫外光源のためのガス噴射ノズルを提供する。【解決手段】 ハウジング22は、第1のガス発生源44と第2のガス発生源46とに結合可能であり且つハウジングの前面から第1のガス36及び第2のガス42を放出するようになされている。ハウジング22は、中心に配置されたガスを放出する第1のチャネル30と、第1のチャネル30に隣接したガスを放出する第2のチャネル34と、を有している。第1のチャネル30は円形であってもよく、第2のチャネル34は、第1のチャネル30を包囲する環状であっても良い。第2のチャネル34から放出された第2のガス流42は、第1のチャネル30から放出された第1のガス流36の横方向の膨張を制限して、ガス噴射特性を理想化し且つノズル20の加熱及び腐食を減少させる。
請求項(抜粋):
極紫外光(EUV)の光源のためのガス噴射ノズルであって、第1のガス発生源に結合するようになされ且つ第1のガス/液滴流を放出するようになされたハウジングであって、当該ハウジング内に配置された前記第1のガス/液滴流を放出するようになされた第1のチャネルと、第2のガス発生源に結合するようになされ且つ前記第1のチャネルによって放出された前記第1のガス流を形づけるために第2のガス流を放出するようになされた第2のチャネルと、を含むガス噴射ノズル。
IPC (6件):
H05H 1/24 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 1/00 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00
FI (7件):
H05H 1/24 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 1/00 Z ,  H01S 3/00 G ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 531 S

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