特許

J-GLOBAL ID：200903024942608596

吸着固定装置の製造方法

発明者： 遠藤 和則
出願人/特許権者： 住友大阪セメント株式会社
代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-182772
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019700
出願日： 2003年06月26日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】パーティクルの発生等の不具合が生じることなしに、固定、矯正、搬送等を行うことができ、しかも、板状試料へのパーティクルの付着量が極めて少ない吸着固定装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の吸着固定装置の製造方法は、誘電体31の上面にサンドブラスト加工を行い、凸部34、34、...及び凹部33、33、...からなる凹凸面を形成し、次いで、凸部34、34、...の頂面及び側面と、凹部33の底面35とを、砥粒と刷子を用いた研磨法により同時に鏡面研磨し、凸部15、15、...の頂面24及び側面25と、凹部26の底面27が共に充分に鏡面研磨された静電チャックを得ることを特徴とする。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

基体の一主面が板状試料を吸着固定する吸着固定面とされ、該吸着固定面には突起または溝が形成されて凹凸面とされ、該凹凸面の凸部の頂面が前記板状試料の保持面とされた吸着固定装置の製造方法であって、 基体の一主面に突起または溝を形成して凹凸面とする工程と、該凹凸面を砥粒と刷子を用いて研磨する工程とを備えたことを特徴とする吸着固定装置の製造方法。

IPC (2件)：

H01L21/68 ,  H01L21/304

FI (2件)：

H01L21/68 R ,  H01L21/304 622H

Fターム (8件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031HA33 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031PA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-277657   出願人：住友金属工業株式会社
• ウェハ用真空チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030567   出願人：住友金属工業株式会社