特許

J-GLOBAL ID：200903024962247255

投影露光装置

発明者： 西 健爾 ,  牛田 一雄 ,  村上 成郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-200800
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050952
出願日： 1995年08月07日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 大気圧や投影光学系の周囲の温度等の環境変化、又は露光用照明光の吸収等によって悪化する投影光学系の非線形倍率誤差(高次倍率誤差)を補正する。【解決手段】 投影光学系PL1を構成するレンズエレメント25〜38A内でレンズエレメント36A,37Aのみを蛍石より形成し、その他のレンズエレメントを石英より構成する。レンズエレメント36A,37A及びレンズ枠G2で囲まれた気体室に、温度制御装置13aから温度制御された気体を供給し、その気体室を通過した気体を温度制御装置13aに戻す。石英からなるレンズエレメントに依って生ずる非線形倍率誤差を、レンズエレメント36A,37Aの温度制御によって除去し、残留する線形倍率誤差を、レンズエレメント33,34間の気体室内の気体の圧力制御によって除去する。

請求項（抜粋）：

マスクパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置において、前記投影光学系は、互いに屈折率の温度特性の異なる硝材よりなる複数組の光学部材を有し、前記複数組の光学部材中の少なくとも1つの光学部材の温度制御を行う温度制御手段を設け、該温度制御手段を用いて前記投影光学系の結像特性を制御することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 516 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 H ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 516 F