特許

J-GLOBAL ID：200903024965321642

露光装置

発明者： 神▲崎▼ 豊樹 ,  大槻 久仁夫
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-220867
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054423
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウェーハの平坦度に部分的なバラツキがあるような場合でも、露光の焦点ズレを最小にし、最適な状態で所望の露光を行うことができる露光装置を提供すること。【解決手段】 半導体ウェーハ15のワンチップサイズの領域15Aごとの平坦度を測定して得られる平坦度情報に基づいて前記各領域における仮想平面28をそれぞれ求め、前記領域15Aを領域単位で露光する際、前記仮想平面28における法線29が露光光学系の光軸30に対して最適な角度となるように露光用ステージ16を傾けるようにしている。

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハのワンチップサイズの領域ごとの平坦度を測定して得られる平坦度情報に基づいて前記各領域における仮想平面をそれぞれ求め、前記領域を領域単位で露光する際、前記仮想平面における法線が露光光学系の光軸に対して最適な角度となるように露光用ステージを傾けるようにしたことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207

FI (4件)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/30 526