水素ガス精製用透過膜構造体およびその製造方法およびそれを用いた水素ガス精製装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-306321
公開番号（公開出願番号）：特開平11-104472
出願日： 1997年10月02日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】透過効率のよい、パラジウム合金の透過膜構造体を低コストで提供する。【解決手段】透過膜構造体10はパラジウム合金膜1とこれを機械的に支える、格子形状の支持枠2から構成される。透過膜構造体は導電性基板に電解鍍金で透過膜となるパラジウムと銀の層を形成する工程と、この表面にX線もしくはホトリソグラフィにより所望のホトレジストパターンを形成する工程と、電解鍍金で支持枠となる金属層を形成する工程と、ホトレジストパターンを除去する工程と、導電性基板を透過膜層から取り去る工程、とにより製造する。【効果】支持枠の強度を強くできるので格子窓部の占める面積を大きく、パラジウム合金膜の膜厚を薄く形成できるため水素の精製効率が向上する。該透過膜構造体を用いて、高性能で小型の水素精製装置を低廉で製造できる。

請求項（抜粋）：

水素ガス精製用透過膜構造体において、透過膜が支持枠に固定され、同支持枠の窓部が透過膜で覆われた構造をもつことを特徴とした透過膜構造体。

IPC (3件)：

B01D 71/02 500 , B01D 53/22 , C01B 3/56

FI (3件)：

B01D 71/02 500 , B01D 53/22 , C01B 3/56 Z

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