特許
J-GLOBAL ID:200903024979828715
フォトニック結晶材料及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅村 皓 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-572544
公開番号(公開出願番号):特表2002-525696
出願日: 1998年08月18日
公開日(公表日): 2002年08月13日
要約:
【要約】フォトニック結晶材料は、電磁波の波長に匹敵する長さ尺度で変動する周期性を持つ3-D周期的構造を有する。3-D周期的構造は、試料内を異なった方向に伝播する放射線の干渉が、試料内の強度の3-D周期的変動を与えるような電磁波で感光性材料を照射することによって生ずる。然る後、照射した材料を現像して材料の照射のより少ない領域又はより多い領域を除去し、複合材料の屈折率に3-D周期性を有する構造を生成させる。3-Dフォトニック材料は、損失の少ない導波管として、またレーザーが放射線を発するモード数を限定するレーザー制御として用いるのに特に適している。
請求項(抜粋):
感光性材料の試料を、その試料内で異なった方向に伝播する電磁波で照射し、前記異なった方向に伝播する電磁波間の干渉により前記試料内で照射強度の三次元的周期的変動を起こさせ、それにより前記感光性材料の屈折率に三次元的周期的変動を、前記照射強度の三次元的周期的変動に基づき生じさせることからなる、フォトニック結晶材料製造方法。
IPC (2件):
FI (3件):
G02B 1/02
, G02B 6/12 N
, G02B 6/12 Z
Fターム (3件):
2H047KA03
, 2H047PA22
, 2H047QA05
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