特許
J-GLOBAL ID：200903024983311492
寸法測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 茂信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-050677
公開番号（公開出願番号）：特開平8-247729
出願日： 1995年03月10日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：
【要約】【目的】 外乱光のある環境下でも精度良く測定できる寸法測定装置を提供する。【構成】 投光部1より、測定対象物5に平行光ビーム4を照射して、その投影光を1次元CCD6で受光し、その出力信号から測定対象物の寸法を測定する装置であって、測定対象物5を設置しない状態で、投光部1のON時とOFF時の1次元CCDの出力をON時データメモリ13と、OFFデータメモリ14に入れて、両データより画素毎の閾値を設定して閾値メモリ16に入れ、測定対象物に設置した状態で、投光部1のON時とOFFの1次元CCD6の出力差を求め、この差出力に閾値メモリ16の閾値を適用して2値化する。
請求項（抜粋）：
測定対象物に平行光ビームを照射する投光部と、前記投光部に対向して配置され、前記投光部からの平行光ビームを受光する1次元受光センサを含む受光部と、この受光部の出力信号を離散化するA/Dコンバータと、前記投光部がONの時の受光信号と、OFFの時の受光信号の離散化信号により、画素別の閾値を求める閾値設定手段と、測定時に、投光部がONの時の受光信号から、投光部がOFFの時の受光信号を減算する減算手段と、前記減算後の受光信号に前記閾値を適用して受光信号を2値化する2値化手段と、2値化信号の値変化点より、測定対象物の寸法を求める手段と、を備えてなる光学式測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/02 Z
, G01B 11/08 Z
