特許

J-GLOBAL ID：200903024989233493

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 住吉 雄平 ,  三上 晃司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-350915
公開番号（公開出願番号）：特開平8-255748
出願日： 1995年12月25日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【課題】 レチクル面上のパターンをウエハ面上に投影する投影光学系の投影倍率誤差及び歪曲収差を補正し、高集積度の半導体デバイスが得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 パターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系を構成する少なくとも2つのレンズ群を、光軸方向に別個に移動させることにより前記基板上に投影されるパターンの投影倍率及び歪曲収差を調整すること。

請求項（抜粋）：

パターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系を構成する少なくとも2つのレンズ群を、光軸方向に別個に移動させることにより前記基板上に投影されるパターンの投影倍率及び歪曲収差を調整することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 7/02 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 516 A ,  G02B 7/02 F ,  G02B 27/18 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-195315   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-134813
  
• 特開平4-030411
  
• 特開平3-088317
  
• 特開平2-081019