特許
J-GLOBAL ID:200903024995017794

光屈折率格子形成の改良された方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 合田 潔 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-315019
公開番号(公開出願番号):特開平6-235809
出願日: 1993年12月15日
公開日(公表日): 1994年08月23日
要約:
【要約】【目的】 ポリマー光屈折材料を使用する光屈折純層2ビームカップリングを生ずる改良された方法の提供。【構成】 ポリマー光学物品を(i)が外部電界及び(ii)コヒーレント電磁放射の2つの交差するビームにさらしてNLO発色団を配向させそして1×10-5より大きい屈折率格子振幅を持つ屈折率格子を形成させることからなる光屈折率格子の形成方法において前記物品は電荷移送剤及び処理工程の間配向に感受性であるNLO発色団からなることを特徴とする方法。
請求項(抜粋):
ポリマー光学物品を(i)外部電界及び(ii)コヒーレント電磁放射の2つの交差するビームにさらしてNLO発色団を配向させそして1×10-5より大きい屈折率格子振幅を持つ屈折率格子を形成させることからなる光屈折率格子の形成方法において、前記物品は電荷移送剤及び処理の間配向に感受性であるNLO発色団からなることを特徴とする方法。

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