特許

J-GLOBAL ID：200903024996195912

半導体製造工程のデータ解析システム

発明者： 姫野 伸吾
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069127
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269107
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】 品質管理データの解析結果の保存や管理、データの解析作業が効率よく行える半導体製造工程のデータ解析システムを提供する。【解決手段】 半導体製造工程の品質管理データを、製造工程全体レベル、ロットレベル、ウェハレベル、チップレベルと順に下階層化するように組み立てた階層レベル構成によって記録、保存する機能と、保存されたデータを読み出し可能にする機能と、データを読み出して解析を行った後の解析結果データを元データ、解析手順と共に記録、保存する機能とを備え、さらに、元データ、解析結果データ、解析手順が、再読み出し、再解析を可能とする機能を備えるようにする。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程の品質管理データを記録、保存する手段と、保存された前記データを読み出し可能にする手段と、前記データを読み出して解析を行った後の解析結果データを元データ、解析手順と共に記録、保存する手段とを備えていることを特徴とする半導体製造工程のデータ解析システム。