整髪用被膜形成樹脂

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (10件)：特許業務法人アルガ特許事務所 , 有賀三幸 , 高野登志雄 , 中嶋俊夫 , 村田正樹 , 山本博人 , 的場ひろみ , 守屋嘉高 , 大野詩木 , 松田政広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-226642
公開番号（公開出願番号）：特開2007-039391
出願日： 2005年08月04日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

【課題】、高湿度下でもべたつくことなく、ヘアスタイルを長時間保持でき、かつシャンプー洗浄性にも優れる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料を提供することを目的とする。【解決手段】次のモノマー成分(A)〜(D)を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料。 (A) CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3:0.5〜20重量% (B) CH2=C(R1)-COOR4 :20〜98.5重量% (C) CH2=C(R1)-COO-R5-OH:0.5〜60重量% (D) 両イオン性基含有エチレン性不飽和モノマー:0.5〜50重量%〔R1:水素原子又はメチル基、R2:C1〜C3の2価飽和炭化水素基、R3:C1〜C3ののアルキル基又はアセチル基、R4はC1〜C18のアルキル基、R5はC2〜C8のアルキレン基〕【選択図】なし

請求項（抜粋）：

次のモノマー(A)〜(D)を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂。 (A) 一般式(1)で表されるシロキシ基含有(メタ)アクリレート系モノマーを0.5〜20重量% CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3 (1) 〔式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は炭素数1〜3の2価飽和炭化水素基を示し、R3は炭素数1〜3のアルキル基又はアセチル基を示す。〕 (B) 一般式(2)で表される(メタ)アクリレート系モノマーを20〜98.5重量% CH2=C(R1)-COOR4 (2) 〔式中、R1は前記と同じ意味を示し、R4は炭素数1〜18のアルキル基を示す。〕 (C) 一般式(3)で表される水酸基含有(メタ)アクリレート系モノマーを0.5〜60重量% CH2=C(R1)-COO-R5-OH (3) 〔式中、R1は前記と同じ意味を示し、R5は炭素数2〜8のアルキレン基を示す。〕 (D) 両イオン性基含有エチレン性不飽和モノマーを0.5〜50重量%

IPC (3件)：

A61K 8/00 , A61Q 5/06 , C08F 220/10

FI (2件)：

A61K7/11 , C08F220/10

Fターム (35件)：

4C083AC022 , 4C083AC102 , 4C083AC182 , 4C083AC352 , 4C083AC482 , 4C083AC542 , 4C083AD011 , 4C083AD091 , 4C083AD092 , 4C083AD132 , 4C083AD152 , 4C083AD162 , 4C083CC32 , 4C083DD08 , 4C083DD23 , 4C083DD27 , 4C083DD41 , 4C083EE07 , 4J100AB02T , 4J100AG04T , 4J100AL03P , 4J100AL04P , 4J100AL05P , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100AL09Q , 4J100AM21R , 4J100AQ08T , 4J100BA04T , 4J100BA32R , 4J100BA77S , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100JA61

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平4-321618号公報
特開平4-360815号公報
毛髪処理用組成物及び毛髪処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-151537 出願人：株式会社資生堂

全件表示

審査官引用 (3件)

整髪用樹脂の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-327669 出願人：大阪有機化学工業株式会社
整髪用被膜形成樹脂
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-263740 出願人：花王株式会社, 大阪有機化学工業株式会社
反応型コーティング剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-082725 出願人：三洋化成工業株式会社

前のページに戻る