特許
J-GLOBAL ID：200903025010021357
溶解性オイル(水ベース)金属加工流体中のミスト抑制剤としての分枝スルホン酸塩含有共重合体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-331777
公開番号（公開出願番号）：特開平11-236589
出願日： 1998年11月20日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 金属加工用途で金属加工流体のミスト化を抑制する添加剤としての共重合体を含有する水性金属加工流体。【解決手段】 水およびミスト抑制共重合体が以下を共重合し形成される。(A) 以下のA(I)等の少なくとも1種の疎水性モノマーA(I) 式(I)により表わされるアルキル置換アクリルアミド化合物(R1は、水素またはメチル基であり、R2およびR3は、水素またはヒドロカルビル基で、R2およびR3中の炭素原子を合わせた全数は、2〜約36である)(B) 以下のB(I)等の少なくとも1種の親水性モノマー化合物B(I) 式(II)により表わされるスルホン酸およびそれらの塩(Xは、OまたはNHなど、R、R4は有機基)(C) 少なくとも1種のエチレン性不飽和分枝モノマー
請求項（抜粋）：
水およびミスト抑制共重合体を含有する水性金属加工流体であって、該共重合体が、以下を共重合することによって形成される水性金属加工流体:(A) 以下のA(I)およびA(II)からなる群から選択された少なくとも1種の疎水性モノマー:A(I) 次式により表わされるアルキル置換アクリルアミド化合物:【化1】ここで、R1は、水素またはメチル基であり、そしてR2およびR3は、独立して、水素またはヒドロカルビル基であるが、但し、R2およびR3中の炭素原子を合わせた全数は、2〜約36である;およびA(II) 次式により表わされるアクリル酸エステル:【化2】ここで、R1は、水素またはメチル基であり、そしてR9は、ヒドロカルビル基またはアルキル末端ポリエーテル基である;(B) 以下のB(I)、B(II)およびB(III)からなる群から選択された少なくとも1種の親水性モノマー化合物:B(I) 次式により表わされるスルホン酸およびそれらの塩:【化3】ここで、Xは、OまたはNYであり、ここで、Yは、水素、1個〜18個の炭素原子を有するヒドロカルビル基または-R(-SO3H)nであり、R4は、水素またはメチル基であり、各Rは、独立して、2個〜約18個の炭素原子を含有する脂肪族または芳香族ヒドロカルビレン基であり、そして各nは、独立して、1または2である;およびB(II) スチレンスルホン酸およびそれらの塩;および(C) 少なくとも1種のエチレン性不飽和分枝モノマー;ここで、成分(B)の塩は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、CuおよびZnの金属塩、およびアンモニウム塩からなる群から選択される;さらに、但し、AがA(I)なら、AとBとのモル比は、約95:5〜約25:75であり、そしてAがA(II)なら、AとBとのモル比は、約90:10〜約25:75である;および、ここで、分枝モノマー(C)の量は、該水性金属加工流体が、金属加工条件を受けるとき、ミスト形成を低下させるのに充分であり、該重合体の実質的な架橋を引き起こすほど多くない。
IPC (9件)：
C10M173/02
, C08L 25/18
, C08L 33/00
, C10M107/46
, C08F212/14
, C08F220/10
, C08F220/54
, C10N 30:00
, C10N 40:22
C10M173/02
, C08L 25/18
, C08L 33/00
, C10M107/46
, C08F212/14
, C08F220/10
, C08F220/54
