特許
J-GLOBAL ID：200903025032591580
多階調丸め補正処理方法およびパターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-107523
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304453
出願日： 1998年04月17日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 被検査対象の実画像の、精度の良いコーナー部の丸め階調補正処理を実行し、コーナー部での疑似欠陥を削減する。【解決手段】 設計データ展開部2において、矩形または台形で記述される設計データ11を、検査分解能以下の分解能を有する各画素に多階調値で配線パターンとして展開して参照データ12を作成し、参照画像作成部3において、実画像15のエッジ位置に基づいて、この参照データの各配線パターンの幅を多階調のまま検査分解能以下でコーナー部の丸め階調補正を行い、光点拡がり関数によるぼかし処理を行う前の参照画像13を作成する。
請求項（抜粋）：
設計データに基づいて被検査対象上に形成されたパターンを、所定波長のレーザービームで走査し、被検査対象を通過して得られる透過光を対物レンズで受光素子上に結像させて、この受光素子から得られたパターン情報から実画像を生成し、この実画像と前記設計データを画像化して得られる参照画像とを比較し、被検査対象の欠陥を検出するパターン検査装置において、検査分解能より細かな分解能を有する各画素上に設計データを多階調値からなるパターンとして展開して参照データを作成し、コーナー情報を一切持たない参照データからコーナー部を自動認識し、同時にこの各パターンコーナー部を実画像から抽出されたコーナー半径に基づいて、多階調のまま検査分解能より細かな精度で参照データのコーナー部の丸め補正処理をすることを特徴とする多階調丸め補正処理方法。
IPC (3件)：
G01B 11/30
, G01N 21/88
, G06T 7/00
G01B 11/30 D
, G01N 21/88 E
, G06F 15/62 405 A
