特許

J-GLOBAL ID：200903025052431644

高分子フィルムシートの製造方法及び高分子フィルムシート

発明者： 大野 晋児 ,  江口 敏正 ,  後藤 英樹
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-091875
公開番号（公開出願番号）：特開2001-279010
出願日： 2000年03月29日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】 表面平滑性に優れた高分子フィルムシートの連続製造法、製造装置及びこれを用いた高分子シートを提供すること。【解決手段】 高分子フィルムシート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線樹脂組成物が軟化した状態で、任意の場所の長さ2mmを操作して測定した際の表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑面を有し、かつ連続的に離型剤が供給されているロールに密着させて紫外線を照射し、ロール平滑面を転写、成形する高分子フィルムシートの製造方法。

請求項（抜粋）：

高分子フィルムシート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線樹脂組成物が軟化した状態で、任意の場所の長さ2mmを操作して測定した際の表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑面を有し、かつ連続的に離型剤が供給されているロールに密着させて紫外線を照射し、ロール平滑面を転写、成形することを特徴とする高分子フィルムシートの製造方法。

IPC (9件)：

C08J 7/04 CEZ ,  B05C 9/12 ,  B05D 3/12 ,  B05D 7/04 ,  B05D 7/24 301 ,  B05D 7/24 302 ,  B05D 7/24 ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L 81:06

FI (9件)：

C08J 7/04 CEZ Z ,  B05C 9/12 ,  B05D 3/12 E ,  B05D 7/04 ,  B05D 7/24 301 T ,  B05D 7/24 302 L ,  B05D 7/24 302 Y ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L 81:06

Fターム (27件)：

2H090JB03 ,  2H090JC00 ,  2H090KA08 ,  4D075AC23 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB46Z ,  4D075DA04 ,  4D075DB31 ,  4D075DB48 ,  4D075EA21 ,  4D075EB16 ,  4D075EB37 ,  4D075EB42 ,  4F006AA40 ,  4F006AB43 ,  4F006BA09 ,  4F006CA08 ,  4F006DA05 ,  4F006EA03 ,  4F042AA08 ,  4F042AA22 ,  4F042CC09 ,  4F042CC12 ,  4F042DB41 ,  4F042DD41 ,  4F042DD46 ,  4F042DF23