特許

J-GLOBAL ID：200903025056402894

補強枠付き荷電粒子線露光用転写マスク及びその製造方法

発明者： 鈴木 美彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-112247
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306806
出願日： 1999年04月20日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【目的】接合歪及びメンブレンに形成された微細パターンの歪を極端に低減した荷電粒子線露光用転写マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】感光基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレンの外周を固定してこれを支える外周枠と、これを補強する補強枠とを可動性イオンを含む極めて薄いガラス板を介して接合してなる補強枠付き荷電粒子線露光用転写マスク。

請求項（抜粋）：

感光基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレンの外周を固定してこれを支える外周枠と、これを補強する補強枠とを可動性イオンを含む極めて薄いガラス板を介して接合してなる補強枠付き荷電粒子線露光用転写マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B

Fターム (8件)：

2H095BA08 ,  2H095BB27 ,  2H095BB29 ,  2H095BC22 ,  2H095BC30 ,  5F056AA22 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05