特許
J-GLOBAL ID:200903025058289521
ペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物、その製造方法、重合開始剤及びポリシロキサン系ブロック共重合体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-262604
公開番号(公開出願番号):特開2001-081187
出願日: 1999年09月16日
公開日(公表日): 2001年03月27日
要約:
【要約】【課題】 ビニル系単量体の重合に際して分解温度が適切で、重合初期から速やかに高分子量のポリシロキサン系ブロック共重合体が得られるペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物、その製造方法等を提供する。【解決手段】 目的とするポリシロキサン化合物は、下記一般式(1)で表される化合物である。このポリシロキサン化合物は、ビニル系単量体の重合開始剤として用いられ、ポリシロキサン系ブロック共重合体が得られる。【化1】式中のR1 及びR2 はR′CO-又は水素であり、その少なくとも一方はR′CO-である。Rは炭素数1〜10のアルキレン基である。R′は炭素数2〜16のアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基である。Xは-(CH2 )2 -、-C≡C-又は-(C6 H4 )-である。nは平均値で2〜2000である。mは平均値で1〜50である。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表されるペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物。【化1】式中のR1 及びR2 はR′CO-又は水素であり、その少なくとも一方はR′CO-である。Rは炭素数1〜10のアルキレン基である。R′は炭素数2〜16のアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基である。Xは-(CH2 )2 -、-C≡C-又は-(C6 H4 )-である。nは平均値で2〜2000である。mは平均値で1〜50である。
IPC (5件):
C08G 67/00
, C08F 4/36
, C08F293/00
, C08G 77/14
, C08G 77/442
FI (5件):
C08G 67/00
, C08F 4/36
, C08F293/00
, C08G 77/14
, C08G 77/442
Fターム (15件):
4J005BA00
, 4J005BB02
, 4J015BA03
, 4J015BA11
, 4J026HA42
, 4J026HA43
, 4J026HA46
, 4J026HE02
, 4J035BA02
, 4J035CA01K
, 4J035FB01
, 4J035FB02
, 4J035FB03
, 4J035FB10
, 4J035LB20
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