特許
J-GLOBAL ID：200903025058449758

パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体

発明者：
山本 昌宏

山本 昌宏 について


出願人/特許権者：
株式会社ナノジオメトリ研究所

株式会社ナノジオメトリ研究所 について


代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-433783
公開番号（公開出願番号）：特開2004-185019
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】 検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。【解決手段】 検査対象パターンの画像から第1のエッジを検出する。第1のエッジと第1の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターン画像と基準パターンとのマッチングを行う。求まったシフト量S1を用いて第1の基準パターンをシフトする。第1のエッジとシフトした第1の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する。パターン変形量の1つとしてシフト量S2が求まる。第2の基準パターンをシフト量S1+S2分シフトする。シフトした第2の基準パターンを用いて、検査対象パターン画像上でプロファイルを求め、第2のエッジを検出する。第2のエッジとシフトした第2の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する。パターン変形量の1つとしてシフト量S3が求まる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
パターン検査装置であって、検査対象パターンと、リソシミュレータで得られた露光パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5件)：
G03F1/08 ,  G01M11/00 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  H01L21/027
FI (6件)：
G03F1/08 S ,  G01M11/00 T ,  G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 502V
Fターム (25件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051EA09 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED15 ,  2G086EE10 ,  2H095BD01 ,  2H095BD02 ,  2H095BD24 ,  2H095BD27 ,  2H095BD28 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC08 ,  5B057DC16 ,  5B057DC34 ,  5B057DC39
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特開平4-172239
  • 特開平2-040777
  • 特開平3-021808
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-172239
  • 特開平2-040777
  • 特開平3-021808

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