特許
J-GLOBAL ID:200903025080396650
アゾ顔料をベースとする顔料調製物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
江崎 光史
, 奥村 義道
, 鍛冶澤 實
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-509324
公開番号(公開出願番号):特表2008-540706
出願日: 2006年04月20日
公開日(公表日): 2008年11月20日
要約:
【課題】 アゾ顔料をベースとする新規の顔料調製物の提供。【解決手段】 式(I) で表されるモノアゾ顔料及び該顔料を基準として0.1〜40重量%の顔料分散剤を含有する顔料調製物において、該顔料分散剤がジスアゾ化合物類で組成されており、その際にジスアゾ化合物の少なくとも30重量%が式(II) Y - X - A - X - Z (II),[式中、Aはビフェニレン、3,3’-ジクロロビフェニレン、3,3’-ジメトキシビフェニレン、3,3’-ジメチルビフェニレン又は2,2’-ジクロロ-3,3’-ジメトキシビフェニレンであり;Xは基-NH-CO-CH(COCH3)-N=N-、-N=N-CH(COCH3)-CO-NH- 又は-N=N-であり;Yは置換された又は非置換のフェニル、ピラゾリン-5-オン-4-イル、1-フェニルピラゾリン-5-オン-4-イル、2-ヒドロキシナフチル-1又は2-ヒドロキシ-3-(フェニルアミノカルボニル)ナフチル-1を意味し、その際に置換基はC1〜C4-アルキル基、C1〜C4-アルコキシ基、ニトロ、ハロゲン又はC1〜C4-アルコキシカルボニル基であり、そしてZはYの意味を有しそして追加的にアンモニウム塩の状態で存在するスルホン酸基で置換されている。]で表される非対称ジスアゾ化合物であることを特徴とする、顔料調製物。
請求項(抜粋):
式(1)
IPC (5件):
C09B 67/20
, C09B 29/33
, C09D 11/00
, G02B 5/20
, G03G 9/09
FI (6件):
C09B67/20 K
, C09B67/20 L
, C09B29/33 B
, C09D11/00
, G02B5/20 101
, G03G9/08 361
Fターム (13件):
2H005AA06
, 2H005CA21
, 2H048BA57
, 2H048BB42
, 4J039BC40
, 4J039BC41
, 4J039BC51
, 4J039BC65
, 4J039BE01
, 4J039BE02
, 4J039BE22
, 4J039EA46
, 4J039GA24
引用特許:
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