特許
J-GLOBAL ID：200903025081157217
レーザ加熱方法とその装置およびこれらに用いるレーザ加熱ツール
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-189411
公開番号（公開出願番号）：特開平8-052582
出願日： 1994年08月11日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：
【要約】【目的】 電力の光強度への変換効率、および集光効率が高く、まわりへの熱影響を抑えやすい、小型かつ長寿命で、装置コストおよびランニングコストの安価な、半田付け等のレーザ加熱に適したものとする。【構成】 加熱に必要な発光容量分の半導体レーザ1を用いてこれを駆動しながら、半導体レーザ1から出射されるレーザ光Lを所定の照射スポット形状に集光することにより被加熱部Aを集光照射し、この被加熱部Aを加熱し、半導体レーザ1は複数組み合わせて用い、半導体レーザ1を駆動するとき、半導体レーザ1に接した放熱体にて直接まわりへの放熱を図る。
請求項（抜粋）：
加熱に必要な発光容量分の半導体レーザを用いてこれを駆動しながら、半導体レーザから出射されるレーザ光を集光光学系に直接透過させて必要形状に集光することにより被加熱部を集光照射し、この被加熱部を光にて加熱することを特徴とするレーザ加熱方法。
IPC (7件)：
B23K 26/06
, B23K 1/005
, B23K 26/00
, B23K 26/14
, H01L 23/467
, H01S 3/00
, H05K 3/34 507
