特許
J-GLOBAL ID:200903025084584434
光干渉型凹凸計測装置を使用する計測方法および装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-245034
公開番号(公開出願番号):特開2001-074426
出願日: 1999年08月31日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】本発明は、光の干渉を利用したサンプルの表面凹凸を計測する装置であって、特に紙、フイルムを測定する際に有効なサンプルステ-ジを装着した光干渉型凹凸計測装置を提供するものである。【解決手段】光の干渉を利用し、サンプルの表面凹凸を計測する装置のサンプルステ-ジ216が、静電吸着板214を有したことを特徴とする光干渉型凹凸計測装置。
請求項(抜粋):
サンプルステージにサンプルを載せて、光の干渉を利用し、サンプルの表面凹凸を計測する光干渉型凹凸計測装置を使用して凹凸計測を行う際に、該サンプルステージ上で静電吸着板によってサンプルを固定して計測を行う計測方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (22件):
2F064AA09
, 2F064BB07
, 2F064CC04
, 2F064CC10
, 2F064FF03
, 2F064GG22
, 2F064HH03
, 2F064HH05
, 2F065AA54
, 2F065CC02
, 2F065DD00
, 2F065DD03
, 2F065FF55
, 2F065GG00
, 2F065HH02
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL12
, 2F065PP24
, 2F065QQ21
, 2F065QQ32
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