特許

J-GLOBAL ID：200903025091226250

塗布装置及び塗布方法

発明者： 立山 清久 ,  元田 公男
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-240030
公開番号（公開出願番号）：特開2002-045772
出願日： 2000年08月08日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【課題】 レジスト液の節約かつ塗膜厚を均一にすることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。【解決手段】 吐出開始からt1の時間経過後に、粘度P1よりも低い所定の粘度P2の処理液を吐出し、処理液の吐出開始からt2の時間経過後に、粘度P2よりも低い所定の粘度P3の処理液を吐出して、吐出開始からtfの時間後にガラス基板G上への処理液の供給を停止する。これによりガラス基板上の領域に応じて処理液の粘度を変化させることができ、レジスト液の節約かつ塗膜厚を均一にすることができる。

請求項（抜粋）：

被処理体を保持する保持部と、前記被処理体を回転駆動する回転手段と、前記被処理体の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、前記処理液の粘度を可変する粘度可変手段と、を具備することを特徴とする塗布装置。

IPC (4件)：

B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/00

FI (4件)：

B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/00 D

Fターム (15件)：

4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075AC96 ,  4D075CA48 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042BA15 ,  4F042BA19 ,  4F042CA05 ,  4F042CA08 ,  4F042EB29 ,  4F042EB30