特許
J-GLOBAL ID：200903025096288326
スパッタリングターゲット及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲垣 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-339497
公開番号（公開出願番号）：特開平6-158297
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】 スパッタリングターゲットに関し、ターゲット部分と支持部分の剥離防止を目的とする。【構成】 スパッタリングターゲットのターゲット部分と支持部分とを深絞り成形で一体成形する。これにより、スパッタリングの際のターゲット部分の剥離防止及びピンホール等に起因する漏れ防止を図ると共に、材料の歩留りを向上させてコスト低減を可能とする。深絞りの際にブランクと金型との間に一部隙間を設け、深絞りの際にターゲット部分ににかかる応力を軽減し、結晶特性の変化を抑え、ターゲット特性の向上を図る。
請求項（抜粋）：
金属又は合金からなり、ターゲット部分と該ターゲット部分を支持する支持部分とを備え、単一の板材から深絞り成形されたことを特徴とするスパッタリングターゲット。
引用特許：
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