特許
J-GLOBAL ID：200903025098306224
永久的な撓みの長期的な蓄積を防止する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-260358
公開番号（公開出願番号）：特開2000-084900
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】 微小機械デバイスの撓み可能部材の変形を防ぐ。【解決手段】 熱的な安定化を通じて、微小機械デバイスの撓み可能な部材の蓄積された永久的な変形を減らす方法と装置。蓄積された変形は、微小機械デバイスの可撓性部品の反復的な曲げ又は捩れ、典型的には、頑丈な部材を基板に接続する可撓性ヒンジの反復的な変形によるものである。デバイスが製造され、不活性化され(316)、パッケージ(322)された後、パッケージされたデバイスが、少なくとも120°Cの温度で焼成(326)される。12乃至16時間の間150°Cで焼成することが好ましい。一層低い温度では、一層長い焼成期間が必要である。
請求項（抜粋）：
微小機械デバイスに於ける永久的な撓みの長期的な蓄積を防ぐ方法に於て、前記デバイスを製造し、前記デバイスを少なくとも120°Cの温度で焼成する工程を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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