特許
J-GLOBAL ID：200903025106506327
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-368308
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195499
出願日： 1997年12月29日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 容易に放電を開始でき、効率の良好なプラズマ生成を行うと共に、均一なプラズマ処理を行えるプラズマ生成用アンテナを用いたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 アンテナ容器10内に複数のロッド21が一定間隔で放射状にかつ同一平面状に配置され、アンテナ容器の上面とロッドの間で容量を形成しかつ共振状態を作るスタブ25がアンテナ容器の上面に配置され、アンテナ容器の上面の一部を貫通してロッドに高周波電力を供給する電力供給機構30,34 が設けられ、さらにプラズマ生成用アンテナ20に、スタブを移動させるスタブ駆動機構40を設ける。プラズマが生成された状態とプラズマが生成されていない状態の各々でスタブとロッドの間の容量を変化させ、プラズマ生成用アンテナが供給される高周波電力周波数で共振条件を保つ。
請求項（抜粋）：
アンテナ容器内に複数のロッドが一定間隔で前記アンテナ容器の中心に向かい放射状にかつ同一平面状に配置され、前記アンテナ容器の上面と前記ロッドとの間で容量を形成しかつ共振状態を作るスタブが前記アンテナ容器の上面に配置され、前記アンテナ容器の上面の一部を貫通して前記ロッドに高周波電力を供給する電力供給機構が設けられたプラズマ生成用アンテナを備えたプラズマ処理装置において、前記プラズマ生成用アンテナに前記スタブを移動させるスタブ駆動機構を設け、プラズマが生成された状態とプラズマが生成されていない状態の各々で、前記スタブと前記ロッドの間の容量を変化させ、前記プラズマ生成用アンテナが、供給される高周波電力の周波数で共振条件を保つようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H05H 1/46 B
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
